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光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner)
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美国OAI光刻机 5000E
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光学正面和背面光刻机OAI 800型
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美国NXQ紫外掩膜光刻机
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紫外曝光机
这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层的处理,是理想的紫外掩曝光机系统。应用:紫外曝光机适合光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。紫外掩曝光机特点1)完美的单色曝光,曝光带宽小于
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DMD无掩膜光刻机
DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机!AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范
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意大利Cofomegra紫外曝光机
简介:真空曝光机:用于对厚度至7mm的锌板和镁板进行曝光试验.两个型号:板尺寸至75 x 85 cm和90 x 110 cm金属卤化物灯该款曝光机用于研究不适用常规标准的曝光试验,用于测试薄膜和板
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DMD无掩模光刻机
DMD无掩模光刻机 DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光
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帕克 NX-Mask 掩模修补系统
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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